A Toshiba Electronic Devices & Storage Corporation (“Toshiba”) realizou hoje uma cerimônia para marcar a conclusão de uma nova instalação de fabricação de wafer de 300 milímetros para semicondutores de potência e um prédio de escritórios na Kaga Toshiba Electronics Corporation na Prefeitura de Ishikawa, Japão, uma das principais empresas do grupo Toshiba. A conclusão da construção é um marco importante para a Fase 1 do programa de investimento plurianual da Toshiba. A Toshiba agora prosseguirá com a instalação de equipamentos, com o objetivo de iniciar a produção em massa no segundo semestre do ano fiscal de 2024. Quando a Fase 1 atingir a operação em escala total, a capacidade de produção da Toshiba para semicondutores de potência, principalmente MOSFETs [1] e IGBTs [2], será 2,5 vezes maior do que no ano fiscal de 2021, quando o plano de investimento foi feito [3]. As decisões sobre a construção e o início da operação da Fase 2 refletirão as tendências do mercado.
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Right: Phase 1 of the new fabrication facility, foreground: the new office building (Photo: Business Wire)
O novo prédio de fabricação segue e fará uma grande contribuição para o Plano de Continuidade de Negócios (BCP) da Toshiba: ele tem uma estrutura de isolamento sísmico que absorve choques de terremotos e fontes de energia redundantes. A energia de fonte renovável e os painéis solares no telhado do edifício (modelo PPA no local) permitirão que a instalação atenda a 100% de sua necessidade de energia com energia renovável.
A qualidade do produto e a eficiência da produção serão aumentadas pelo uso de inteligência artificial (IA). A Toshiba espera receber um subsídio do Ministério da Economia, Comércio e Indústria do Japão para financiar parte do investimento em equipamentos de manufatura.
Os semicondutores de potência desempenham um papel crucial no fornecimento e controle de eletricidade e são dispositivos essenciais para a eficiência energética em todos os equipamentos elétricos. Com a contínua eletrificação de automóveis e a automação de máquinas industriais, espera-se que eles apresentem um crescimento robusto e contínuo da demanda. A Toshiba iniciou a produção de semicondutores de energia em uma nova linha de wafer de 300 milímetros no segundo semestre do ano fiscal de 2022 nas instalações existentes da Kaga Toshiba Electronics. No futuro, a empresa expandirá a produção com a nova fábrica e contribuirá ainda mais para a neutralidade de carbono.
[1] Transistor de efeito de campo semicondutor de óxido metálico
[2] Transistor bipolar de porta isolada
[3] O total da capacidade de fabricação de wafer de 200 e 300 milímetros (equivalente a 200 milímetros)
Visão geral da Kaga Toshiba Electronics Corporation
Localização: 1-1, Iwauchi-machi, Nomi-shi, Prefeitura de Ishikawa, Japão
Estabelecida: Dezembro de 1984
Presidente e diretor representante: Satoshi Aida
Funcionários: 1.150 (em 31 de março de 2024)
Principais produtos: Semicondutores discretos (semicondutores de potência, dispositivos de pequenos sinais e dispositivos optoeletrônicos)
Web: https://www.toshiba-kaga.co.jp/ (somente em japonês)
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Sobre a Toshiba Electronic Devices & Storage Corporation
A Toshiba Electronic Devices & Storage Corporation, fornecedora líder de soluções avançadas de semicondutores e armazenamento, baseia-se em mais de meio século de experiência e inovação para oferecer aos clientes e parceiros comerciais semicondutores discretos, LSIs de sistema e produtos de HDD excepcionais.
Saiba mais em https://toshiba.semicon-storage.com/ap-en/top.html
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